鉭靶被大(da)范圍(wei)app于半導體材料(liao)(liao)、電子光學、磁(ci)鐵貯存物(wu)料(liao)(liao)各種高耐磨、耐抗(kang)腐蝕元器等(deng)方向的鍍一層薄薄的膜。

種元素英文符號:Ta
飽和度:3N5+
造型:正等軸測圖靶；轉動靶
美觀:深橘黃色材料
典型性強度:16.54g/cm3
日常尺寸大小:平行面靶: 500x500x30mm
飛速轉動靶: L4000mm
其余規格可開發
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