鈦(tai)靶常(chang)能(neng)夠(gou) 真空度濺射，代替半導體行業、顯視(shi)、太陽能(neng)光伏、低輔射玻璃窗、抗磨損(sun)和(he)裝點功率器件的電鍍。

風格遺漏:Ti
純凈度:4N+
樣式:水平線靶；拖動靶
外觀專利:銀灰色彩石
舉例硬度:4.5g/cm3  
一般尺寸規格:平面磨靶: 2000x500x30mm
補償器靶: L4000mm
多種長寬高可訂制


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