銅靶按照重力作用濺射成型膜層,范圍廣app于摸屏、半導體材料、感應器器、用電線路集成電路芯片和設計品等服務業的集成電路芯片渡膜。

成分英文符號:Cu
色度:4N+
造型:平米靶; 轉動靶
金屬機身:紅銅色復合
舉例體積密度:8.57g/cm3
普通面積:垂直面靶: D500mm
選轉靶: L4000mm
其余長寬比可定制化

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