鎳靶可借助機械泵濺射行成膜層,使用在磁文件存儲媒介、半導體材料、LED等企業電子元件鍍一層薄薄的膜。

設計元素數字符號:Ni
飽和度:4N+
形狀圖片大全:平面圖靶;飛速轉動靶
外裝:鋁制塑料
非常典型黏度:8.94g/cm3
常規檢查長寬:水平靶: 2400x500x30mm
轉動靶: L3000mm
某些大小可個性定制


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