鉻靶廣泛技術應用技術應用于半導體行業、低普及玻離、設計裝飾和工作性膜層等科技領域的真空環境鍍一層薄薄的膜。

因素標志:Cr
色度:3N5+
形態:表面靶; 補償器靶
外裝:銀灰材料
明顯比熱容:7.2g/cm3  
日常外形尺寸:剖面靶: 500x125mm
縮放靶: L1500mm
其他尺寸規格可來樣加工


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